超纯水设备性能优势
EDI水处理装置性能优势数不胜数，其能够连续稳定的制备品质优良的超纯水，不会因为树脂再生而停止运行，设备结构设计相对靠紧，所以其占地非常小，可以为企业节省很多空间，超纯水设备在出厂前均需进行装置调试，所以设备故障几率较小，日常保养、维修等操作都非常简单。
超纯水系统内部还安置有反渗透预脱盐技术，再次从根本上行保障了设备的出水水质，与此同时，EDI处理装置废水产出量少，不会对环境造成污染，有非常高的环境效益、经济效益，其发展前景广阔。
超纯水水质标准
我公司超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
超纯水系统前景
清洗行业超纯水设备内部还安置有反渗透预脱盐技术，再次从根本上行保障了设备的出水水质，与此同时，EDI处理设备废水产出量少，不会对环境造成污染，有非常高的环境效益、经济效益，其发展前景广阔。
3）EDI设备优点
A、无需酸碱再生，无化学药剂使用，无酸碱废水排放，生产过程无任何污染，属清洁生产；
B、无需停机再生，连续生产水质稳定的高纯水；
C、运行稳定可靠，降低运行和维修费用；
D、无需派专门人员看守，易于实现设备自动化控制；
E、设备占地面积小，减少车间建设面积，节约场地建设费用投资。
F、控制系统可根据用户具体使用要求进行个性化设计，结合先进的控制软件，现场在线集中监控重要工艺操作参数，避免人工误操作，多方位确保系统长期稳定运行。
4）应用领域
A、制药行业、微电子行业、发电工业和实验室。
B、在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛。
C、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
D、超纯材料和超纯化学试剂；
E、实验室和中试车间；
F、汽车、家电表面抛光处理；
G、光电产品；
H、其他高科技精微产品
5）EDI先进性比较
(1)产水水质比较
ＥＤＩ装置是一个连续净水过程，因此其产品水水质稳定，电阻率***高可达18.25ＭΩ?ｃｍ，达到超纯水的指标。混床离子交换设施的净水过程是间断式的,，在刚刚被再生后，其产品水水质较高，而在下次再生之前，其产品水水质较差。
(2)投资量比较
与混床离子交换设施相比ＥＤＩ装置投资量要高约20%左右，但从混床需要酸碱储存、酸碱添加和废水处理设施及后期维护、树脂更换来看,两者费用相差在10%左右。随着技术的提高与批量生产，ＥＤＩ装置所需的投资量会大大的降低。另外，ＥＤＩ装置设备小巧，所需厂房远远小于混床。
(3)运行成本比较
ＥＤＩ装置运行费用包括电耗、水耗、药剂费及设备折旧等费用，省去了酸碱消耗、再生用水、废水处理和污水排放等费用。
在电结论：在运行费用中，ＥＤＩ装置吨水运行成本在1.8元左右，常规混床吨水运行成本在3.2元左右，高于ＥＤＩ装置。因此，ＥＤＩ装置多投资的费用在1-2年内完全可以回收。
6）EDI设备安装要求
（1）无须专做安装基础，地基坚实水平即可
（2）入水水压如低于0.2Mpa需加装管道泵
（3）使用前需先冲洗管道，避免杂质堵塞阀体，污染树脂
（4）不可用加碘盐、加钙盐作再生剂，定期向盐罐加盐，确保盐水饱和浓度（应保证溶解时间不小于六小时）。
（5）设备配置
EDI纯水设备操作运行维护
EDI纯水设备的良好的长期运行不仅依赖于系统的初期设计，而且取决于正确的运行和维护。这包含系统的初期启动和运行过程中的启动/停机。为了保持系统的长期良好运行，需要对系统运行数据进行定期记录，以便日后日常运行维护。而且日常运行维护数据对于在设备故障判断和决定采取何种措施方面有重要意义。
1、启动前的检查通过运行反渗透装置，将其处于回流状态。
测试EDI纯水设备进水水质的下列指标：
进水水源二级反渗透产水
进水当量电导率(包括CO2与Si)＜40μS/cm
硅